真空鍍膜是在真空環(huán)境中，將膜材氣化并沉積到固體基材上形成固態(tài)薄膜的方法。
　　真空鍍膜是在生長薄膜的重要方法，幾乎所有類型的薄膜都可以用真空鍍膜方法制備。,　　
　　化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。
　　真空鍍膜的特點
　　真空鍍膜和其他鍍膜方式相比較具有以下特點：
　　(1)真空鍍膜可以在固態(tài)基礎上鍍制金屬、合金、半導體薄膜及各種化合物薄膜，薄膜的成分可以在大范圍內調控。
　�。�2）真空鍍膜可以鍍制高純度、高至密度、與基礎結合力強的各種功能薄膜、電子薄膜、光學薄膜。特別是大規(guī)模集成電路、小分子有機顯示器件、硅太陽能電池等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備，其他制膜技術無法滿足要求。
　　（3）真空鍍膜對環(huán)境的污染小，特別是PVD方法，對環(huán)境基本沒有污染。用化學方法制備薄膜時，一方面膜自身受到制膜所使用的溶劑污染，性能降低，另一方面反應廢棄物對環(huán)境也會造成污染。
　�。�4）真空鍍膜的主要缺點是需要真空設備，相對來說成本比較高！
　　而吉誠不銹鋼擁有數套PVD真空離子鍍設備
　　因其工藝流程復雜、環(huán)境、設備要求高，單價比水電鍍昂貴。
　　可以鍍制的顏色多彩，包括水鍍中常見的黑鈦色，真空離子電鍍也能實現。定制黑鈦時請注明是需求水鍍還是電鍍哦！