真空鍍膜和其他鍍膜方式相比較具有以下特點(diǎn)：
　　(1)真空鍍膜可以在固態(tài)基礎(chǔ)上鍍制金屬、合金、半導(dǎo)體薄膜及各種化合物薄膜，薄膜的成分可以在大范圍內(nèi)調(diào)控。
　�。�2）真空鍍膜可以鍍制高純度、高至密度、與基礎(chǔ)結(jié)合力強(qiáng)的各種功能薄膜、電子薄膜、光學(xué)薄膜。特別是大規(guī)模集成電路、小分子有機(jī)顯示器件、硅太陽能電池等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備，其他制膜技術(shù)無法滿足要求。
　�。�3）真空鍍膜對(duì)環(huán)境的污染小，特別是PVD方法，對(duì)環(huán)境基本沒有污染。用化學(xué)方法制備薄膜時(shí)，一方面膜自身受到制膜所使用的溶劑污染，性能降低，另一方面反應(yīng)廢棄物對(duì)環(huán)境也會(huì)造成污染。
　�。�4）真空鍍膜的主要缺點(diǎn)是需要真空設(shè)備，相對(duì)來說成本比較高！
　　而冠邦不銹鋼擁有數(shù)套PVD真空離子鍍?cè)O(shè)備
　　因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴。
　　可以鍍制的顏色多彩，包括水鍍中常見的黑鈦色，真空離子電鍍也能實(shí)現(xiàn)。定制黑鈦時(shí)請(qǐng)注明是需求水鍍還是電鍍哦！